带蒸发CVD系统

您现在的位置：主页 > 产品展示 > 硫化物CVD系统（分体式）

产品型号：H-CVD-1200S

产品品牌：翰军

接受定制：是

交货周期：5-15个工作日

上架时间： 2019-02-16

浏览次数： 2976次

一、概述

此套系统H-CVD-1200S前端配有可加热到0-1000℃的蒸发器，辅助固体源蒸发，后端为双温区硫化炉，温度控制精确，操作简便。

左端配有法兰支撑架可将预热器和硫化炉分开使用。右端可配气氛微调装置，可以准确的反应腔体内部的气体压力，带刻度的调

节阀对于做低压CVD非常实用，重复性好；真空机组装有真空粉尘过滤器以保护机械式真空泵不被硫粉尘损坏。整套系统可在1200℃

以下的工艺温度稳定气相沉积二硫化钼等二维化合物材料。

二、设备组成

HTF-1100蒸发器，HTF-1200D双温区管式炉，(蒸发器与高温反应区采用分体式)，

三、主要技术参数

蒸发器

型号：HTF-1100

工作温度：室温-1000℃

最高温度：1050℃

最快升温速率：30℃/min

推荐升温速率：10℃/min

控温方式：智能化30段可编程控制

工作电压：AC220 V

额定功率：1000W

控温精度：±1℃

加热元件：电阻丝

加热区长度（mm）：150mm

双温区硫化炉

型号：HTF-1200D

技术参数：

额定功率(KW):3

额定电压(V):AC220v 50/60 Hz

最高温度(℃):1200（1 hour）

持续工作温度(℃）：1100

升温速率（℃/min）：≤50

炉管尺寸（mm）：

高纯石英管Φ50×1500mm

加热区长度（mm）：150/300mm

恒温区长度（mm）:100/120mm

控温方式:模糊PID控制和自整定调节，智能化30段可编程控制，具有超温和断偶报警功能

控温精度(℃):±1

加热元件:电阻丝

配件

配真空粉尘过滤器，DN25手动蝶阀用于控制炉管内压力，防腐型数显真空计，三路混气系统（可选）