CVD气相沉积系统

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快速升温CVD系统

产品型号：HCV-1100R

产品品牌：翰军

接受定制：是

交货周期：30工作日

上架时间： 2020-03-02 16:03:12

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一、概述：

这款配置的高真空CVD系统集快速红外加热炉，2通道气路系统和低真空系统组成。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。本套系统用于CVD退火，也可以应用于于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。

二、主要技术参数

1200加热炉	电压	AC380V 50/60Hz
	功率	24KW
	加热区长	400mm
	最高使用温度	1100℃
	工作温度	≤1000℃
	升温速率：	≤600℃/min
	温控系统	PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器，
	恒温精度	±5
	石英管	Φ50/60/80/100*1400mm
两路质量流量控制系统	最大电压	185~24V/50Hz
	最大输出功率：	18W
	流量计标准量程	300SCCM
	工作温度：	5~45 oC
	工作压差：	0.1～0.5 MPa
	最大压力：	3Mpa
	准确度：	±1.5% FS
真空系统	1.采用双极旋片真空泵，真空度可达5×10-1 Torr不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性 2.安装过滤器
法兰及支撑	304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等
可选配件	混气系统,中、高真空系统，各种刚玉坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机等。